顯然可見(jiàn)中國對半導體制造業(yè)的投資力道未見(jiàn)停歇，對ASML而言，中國的影響力越來(lái)越大，同樣的中國對其他半導體設備業(yè)及相關(guān)材料廠(chǎng)商也是如此，未來(lái)可預見(jiàn)中國的半導體供應鏈越趨完整。電子制作模塊
EUV終于進(jìn)入量產(chǎn)階段，部分尖端芯片制造商計劃在2018年或最遲2019年初采用。ASML總裁兼執行長(cháng)Peter Wennink在2017年表示，“EUV進(jìn)入大量芯片制造的準備工作將進(jìn)一步加快”。
ASML 2017年營(yíng)收達到13.4億美元，并在第四季額外接單10臺EUV系統，目前ASML手中累積未出貨的EUV設備訂單高達28臺。
ASML指出，隨著(zhù)該公司持續支持中國不斷擴展的半導體產(chǎn)業(yè)，2016年半導體制造設備對中國的銷(xiāo)售額增加了20%以上，除了出貨在中國營(yíng)運的外資晶圓廠(chǎng)，ASML還計劃于2018年向5家中國本土客戶(hù)供貨。
EUV營(yíng)收占比創(chuàng )新高，ArF-immersion仍是黃光設備市場(chǎng)規模最大宗產(chǎn)品
晶圓制造導入EUV的消息延宕多時(shí)，由于先進(jìn)制程僅采用浸潤式曝光機(ArF-immersion)進(jìn)行黃光制程難以繼續為廠(chǎng)商帶來(lái)成本效益，半導體廠(chǎng)商不得不致力于將EUV的導入成為現實(shí)，也因此EUV對ASML的營(yíng)收占比上升是可預期的結果，先進(jìn)制程導入EUV。
雖然減少前段晶體管制程key-layer的光罩數目，將大幅減少ArF-immersion在Key-layer的使用，但晶體管微縮使得金屬導線(xiàn)線(xiàn)寬也進(jìn)一步微縮，基于成本考量廠(chǎng)商仍會(huì )采用ArF-immersion進(jìn)行部分金屬導線(xiàn)制程，加上存儲器廠(chǎng)商的產(chǎn)能持續擴增，ArF-immersion仍是受廠(chǎng)商仰賴(lài)的黃光設備。
中國對設備廠(chǎng)商的影響力上升
ASML于中國當地的營(yíng)收及積壓待配訂貨統計，source：拓墣產(chǎn)業(yè)研究院
如圖所示，ASML出貨于中國當地的黃光設備營(yíng)收貢獻逐年提升，2017年已達7.2億美元，占ASML總營(yíng)收11.3%，雖然相對臺灣、韓國及美國占比仍小，但已是5年前的2.1倍，成長(cháng)不可謂不大，加上中國當地的積壓待配訂貨(Backlog)也創(chuàng )下新高達到8億美元。
顯然可見(jiàn)中國對半導體制造業(yè)的投資力道未見(jiàn)停歇，對ASML而言，中國的影響力越來(lái)越大，同樣的中國對其他半導體設備業(yè)及相關(guān)材料廠(chǎng)商也是如此，未來(lái)可預見(jiàn)中國的半導體供應鏈越趨完整。
