美系光刻膠能否解決韓系半導體廠(chǎng)商的燃眉之急？

投入研發(fā)短期內難以出成果

韓媒3日報道，韓國政府就日本限制對韓出口的應對方案作出回應，將計劃每年投入1萬(wàn)億韓元(約合人民幣58.8億元)，推進(jìn)對半導體材料、零部件和設備的研發(fā)，正在對此進(jìn)行可行性調查。

不過(guò)，光刻膠是國際上技術(shù)門(mén)檻最高的微電子化學(xué)品之一。其行業(yè)集中度高，龍頭企業(yè)市場(chǎng)份額高，行業(yè)利潤水平高，且暫無(wú)潛在替代產(chǎn)品。又因為，作為半導體芯片產(chǎn)業(yè)的上游產(chǎn)品部分，光刻膠產(chǎn)品的質(zhì)量直接影響下游芯片產(chǎn)品的質(zhì)量，因此下游行業(yè)企業(yè)對光刻膠產(chǎn)品的質(zhì)量和供貨能力十分重視，上下游的合作模式比較穩固，新的供應商較難加入供應鏈。

另外，隨著(zhù)半導體IC的集成度日漸提升，對光刻技術(shù)的精密性要求也不斷嚴格，半導體光刻膠也通過(guò)不斷縮短曝光波長(cháng)的方式來(lái)提高極限分辨率。據了解，光刻膠的曝光波長(cháng)由寬譜紫外向g線(xiàn)-i線(xiàn)-KrF-ArF-EUV(13.5nm)的方向移動(dòng)。當前，半導體芯片市場(chǎng)對于g線(xiàn)和i線(xiàn)光刻膠使用量最大，KrF和ArF光刻膠技術(shù)被日本和美國企業(yè)壟斷，韓國和中國作為追趕者正在積極研發(fā)ArF193nm光刻膠技術(shù)。

美系光刻膠是否能解救韓系半導體廠(chǎng)的危機？

在全球光刻膠市場(chǎng)，日本占有非常重要的位置。全球專(zhuān)利分布前十的公司，有7成是日本企業(yè)。其中，日本JSR和東京日化可量產(chǎn)市面上幾乎所有的光刻膠產(chǎn)品（EUV光源用光刻膠正在研發(fā)中），信越化工、富士電子、住友化工在當下主流的半導體光刻膠領(lǐng)域也有較突出的表現。

在韓國，東進(jìn)化學(xué)、LG化學(xué)、錦湖化學(xué)、COTEM等也生產(chǎn)光刻膠材料，錦湖化學(xué)為SK海力士半導體供應ArFDry產(chǎn)品以及部分ArF Immersion產(chǎn)品，東進(jìn)化學(xué)在半導體領(lǐng)域仍只供應KrF以下等級部分產(chǎn)品。實(shí)際上，韓國本土光刻膠企業(yè)目前暫不具備量產(chǎn)KrF以上的光刻膠的能力。而韓國的半導體制造工廠(chǎng)的技術(shù)最高已經(jīng)達到7nm，三星電子和SK海力士均有ArF和EUV光刻機設備。目前，在全球范圍內能生產(chǎn)ArF光刻膠的企業(yè)主要以日美兩國企業(yè)為主，Euv光刻膠還在研發(fā)階段。如果日韓兩國的關(guān)系沒(méi)有及時(shí)得到修復，庫存的材料用盡，新的材料又尚未走完審核流程的這段時(shí)間里，三星電子和SK海力士的一些產(chǎn)線(xiàn)將面臨停擺的風(fēng)險。

日前，SK海力士發(fā)言人對媒體表示，如果兩國之間的問(wèn)題得不到妥善的解決，且不能追加半導體材料采購，未來(lái)或將出現停產(chǎn)的情況。而在這個(gè)空缺期，美系光刻膠企業(yè)是否能成為韓系半導體廠(chǎng)商的“續命丹”？

美國陶氏化學(xué)具備量產(chǎn)市面上全線(xiàn)光刻膠產(chǎn)品的能力，韓國半導體企業(yè)在被日本限制出口之后，它或將成為最佳選擇。不過(guò)，與眾多日系光刻膠企業(yè)相比，陶氏化學(xué)的產(chǎn)能能否滿(mǎn)足韓國半導體企業(yè)的需求，還是個(gè)問(wèn)題。

值得注意的是，韓國在日本宣布對其限制進(jìn)口之后才明確表示加大對半導體材料的研發(fā)力度，相信在韓方有所成績(jì)之前，該國的半導體廠(chǎng)商依舊需要購買(mǎi)日方的材料。此前三星電子和SK海力士的光刻膠材料主要有日本企業(yè)供應，如果在這個(gè)節點(diǎn)轉向美系企業(yè)是否會(huì )順利？國際電子商情將持續關(guān)注。