中國高端制造又一顆新星閃耀,掌握5nm刻蝕機技術(shù),與半導體設備巨頭專(zhuān)利交手并贏(yíng)得勝利,國內第一大半導體設備制造商再創(chuàng )佳績(jì),成為臺積電最先進(jìn)7nm工藝設備供應商。電子制作模塊
據臺媒報道,目前臺積電的7nm布局最積極,近期臺積電更是轉變了7nm制程設備的采購策略,將應用材料(AppliedMaterials)、科林研發(fā)(LAM)、東京威力科創(chuàng )(TEL)、日立先端(Hitach)、中微半導體5大設備商均納入采購名單,致力平衡7nm制程設備商生態(tài)價(jià)格。
值得注意的是,中微半導體是唯一進(jìn)入臺積電7nm制程蝕刻設備的大陸本土設備商。據悉,中微與臺積電在28nm制程時(shí)便已開(kāi)始合作,并一直延續到10nm制程,以及現在的7nm制程。未來(lái),中微也將與臺積電跨入下一世代5nm合作。此外,中微也將與聯(lián)電展開(kāi)14nm工藝制程的合作。
為符合大陸半導體設備國產(chǎn)化的政策目標,2016年,有兩家大陸半導體設備商獲得國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金(大基金)投資。其中一家便是中微半導體,獲得4.8億元投資;另一家是上海微電子設備(SMEE)。
今年4月,中微半導體CEO尹志堯在公共場(chǎng)合表示,目前中微半導體在全球各地已經(jīng)建置共計582臺刻蝕反應臺,并預期今年將增長(cháng)至770臺。目前中微半導體產(chǎn)品已經(jīng)進(jìn)入第三代10nm、7nm工藝,并進(jìn)入晶圓廠(chǎng)驗證生產(chǎn)階段,即將進(jìn)入下一世代5nm、甚至3.5nm工藝。
據尹志堯透露,過(guò)去幾年公司銷(xiāo)售維持30-35%增長(cháng)率,預期2017年增長(cháng)率將達到80%。2017年,中微銷(xiāo)售將達11億元人民幣,在此基礎上,未來(lái)十年將持續開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品,擴大市場(chǎng)占有率,中微的目標是:2020年20億元、2050年50億元,并進(jìn)入國際五強半導體設備公司。
目前,中微有460多個(gè)介質(zhì)刻蝕反應臺,并在海內外27條生產(chǎn)線(xiàn)上生產(chǎn)了約4000多萬(wàn)片晶圓;同時(shí),中微還開(kāi)發(fā)了12英寸的電感型等離子體ICP刻蝕機;此外,中微還開(kāi)發(fā)了8英寸和12英寸TSV硅通孔刻蝕設備,不僅占有約50%的國內市場(chǎng),而且已進(jìn)入臺灣、新加坡、日本和歐洲市場(chǎng),尤其在MEMS領(lǐng)域擁有意法半導體(ST)、博世半導體(BOSCH)等國際大客戶(hù)。
在專(zhuān)利方面,中微共申請了超過(guò)800件相關(guān)專(zhuān)利,其中絕大部分是發(fā)明專(zhuān)利,目前有一半以上已獲授權。
公司董事長(cháng)尹志堯博士簡(jiǎn)介
尹志堯出生于北京,中學(xué)就讀于北京四中,本科及碩士分別畢業(yè)于中科大、北大,1980年赴美留學(xué),獲得加州大學(xué)物理化學(xué)博士學(xué)位。先后在intel、LAM技術(shù)部門(mén)工作,1991年后一直在美國硅谷從事半導體行業(yè),在世界最大的百億美元的半導體設備企業(yè)——美國應用材料公司擔任總公司副總裁,曾被譽(yù)為“硅谷最有成就的華人之一”,參與了美國幾代等離子體刻蝕機的研發(fā),在半導體行業(yè)20多年,擁有60多項專(zhuān)利技術(shù)。然而在2004年,60歲的他依然放棄美國的百萬(wàn)美元的年薪,沖破美國政府的層層審查,所有的工藝配方、設計圖紙都被美國沒(méi)收。帶領(lǐng)之三十多人的團隊回到中國,創(chuàng )建中微公司。