關(guān)鍵字:7nm工藝 TSMC臺積電 Xilinx 電子實(shí)驗室模塊
雙方合作將為賽靈思帶來(lái)在多節點(diǎn)擴展的優(yōu)勢,并進(jìn)一步延續其在 28nm、20nm 和 16nm 工藝節點(diǎn)所實(shí)現的出色的產(chǎn)品、執行力和市場(chǎng)成功。
“臺積公司是我們在 28nm、20nm 和 16nm 實(shí)現‘三連冠(3 Peat)’成功的堅實(shí)基礎。其出色的工藝技術(shù)、3D 堆疊技術(shù)和代工廠(chǎng)服務(wù),讓賽靈思在出色的產(chǎn)品、優(yōu)異的品質(zhì)、強大的執行力以及領(lǐng)先的市場(chǎng)地位上享有了無(wú)與倫比的聲譽(yù)。同時(shí),他們還助力賽靈思產(chǎn)品組合成功轉型至新一代的 SoC、MPSoC 和 3D IC,進(jìn)一步補充和完善了我們世界級的 FPGA 產(chǎn)品。我們相信臺積公司的 7nm 技術(shù)將會(huì )為賽靈思帶來(lái)更大的變革。”
——Moshe Gavrielov,賽靈思公司總裁兼 CEO
“臺積公司非常高興能夠和賽靈思一起實(shí)現其第四代突破性產(chǎn)品?;趦杉夜疽回灹己玫膮f(xié)作與執行力記錄,我們此次合作將為賽靈思帶來(lái)向新一代擴展和3D集成的優(yōu)勢。”
——劉德音(Mark Liu) 博士,臺積公司總經(jīng)理兼聯(lián)合 CEO
賽靈思計劃于 2017 年推出 7nm 產(chǎn)品。今年稍早,臺積電宣布采用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統,在24小時(shí)內曝光1,000片晶圓,主要用于7nm工藝節點(diǎn)的研發(fā)和實(shí)驗。