美國神秘買(mǎi)家購15臺EUV微影引發(fā)猜想

針對荷蘭半導體設備供貨商艾司摩爾(ASML Holdings NV)售出15臺極紫外光(EUV)微影系統給一家神秘美國買(mǎi)家的新聞，業(yè)界分析師們分別提出了不同的反應與看法。雖然很少有人懷疑英特爾(Intel)就是買(mǎi)家，但這項交易的條款以及EUV是否為半導體制造準備就緒等細節仍不明朗。

 

EUV微影技術(shù)雖然已經(jīng)用了幾十年了，由于存在光源不足的缺陷，至今仍無(wú)法提供制造先進(jìn)芯片所需的良率與產(chǎn)能。ASML長(cháng)久以來(lái)已經(jīng)在這方面發(fā)布了幾次重要的系統升級，但最近的進(jìn)展仍遠低于生產(chǎn)目標。

 

就在去年秋天的英特爾開(kāi)發(fā)者論壇(IDF)上，英特爾院士Mark Bohr表示，EUV“尚未準備就緒，其產(chǎn)能與可靠性都還未能到位。”

 

Mark Bohr當時(shí)表示，英特爾正著(zhù)眼于一種無(wú)需使用EUV的方法，能夠在更具成本效益的前提下制造7nm芯片。他稍早前即針對10nm工藝發(fā)表相同的看法，不過(guò)，該公司尚未對于7nm與10nm工藝節點(diǎn)透露更多細節。

 

有的分析師認為英特爾就是ASML新聞發(fā)布中所提到的美國現有客戶(hù)。不過(guò)，根據另一位分析師推測，這會(huì )是一項長(cháng)期的交易，因為在15臺EUV系統中有10臺要到2017年以后才能出貨。根據分析師指出，這項交易已經(jīng)讓ASML的股價(jià)上漲15%了。

 

其他分析師也采取更樂(lè )觀(guān)的看法。“對于英特爾來(lái)說(shuō)，要在10nm節點(diǎn)利用EUV為時(shí)已晚，目前的時(shí)機似乎更適合用于7nm，”Real World Technologies首席分析師Daid Kanter表示。

 

“這是對于A(yíng)SML投下信心的一票，從這項訂單的規?？煽闯?，EUV即將進(jìn)入大量生產(chǎn)；以往的交易通常只買(mǎi)一兩臺機器，主要用于實(shí)驗目的，”Kanter說(shuō)，“而英特爾購買(mǎi)EUV可望促進(jìn)其他競爭對手如三星(Samsung)、Globalfoundries與臺積電(TSMC)在不久的將來(lái)盡快進(jìn)行系統升級，”他補充說(shuō)。

 

然而，Kanter提醒，實(shí)際的銷(xiāo)售交易仍然取決于EUV是否能符合性能目標。此外，他并補充說(shuō)，EUV系統能否達到內存制造商更嚴峻的成本目標，一切也還是個(gè)未知數。

 

今年稍早，臺積電宣布采用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統，在24小時(shí)內曝光1,000片晶圓。該公司預計在7nm工藝節點(diǎn)時(shí)使用EUV，但在10nm生產(chǎn)開(kāi)始后也將嘗試導入于其10nm工藝中。這項新的EUV交易顯示英特爾可能也打算采取類(lèi)似的計劃。

 

無(wú)疑地，EUV是業(yè)界主要的候選技術(shù)，它能夠避免當今193nm浸潤式微影系統利用多種圖形化步驟帶來(lái)的高成本。然而，除了與光源有關(guān)的問(wèn)題以外，EUV仍然面臨光阻劑、光罩偵測、密度與防護膜等障礙。